ピュアオゾン水を用いた先端プロセス開発
同社独自のピュアオゾン水生成装置が生み出す、従来にない超高濃度オゾン水を活用した先端プロセスの研究・開発を担当していただきます。 ピュアオゾン水の高い酸化力と特徴的な反応特性を生かし、次世代半導体製造をはじめとする各種産業分野に向けて、これまでにない洗浄、表面改質、材料合成などのプロセスを開発します。 【具体的には】 対象物との反応メカニズムの検討、実験計画の立案、評価・分析、処理条件の最適化を通じて、ピュアオゾン水の新たな用途とプロセスを確立します。 [プロセス開発の例] ・次世代半導体製造を支える、革新的な洗浄・除去プロセスの開発 従来手法では困難だった処理の実現や、薬液使用量・環境負荷の低減を目指します。 ・表面改質による接着性・密着性・親水性などの向上 ・ピュアオゾン水の酸化反応を活用した、新規材料および材料合成プロセスの開発 【対象製品】 ピュアオゾン水生成装置