東京応化工業株式会社

次世代EUVフォトレジストの材料開発エンジニアとして、以下の業務をご担当いただきます。 【具体的には】 ■共通業務（配属初期～半年頃に担当いただく業務） ・社内評価装置を用いた基礎特性評価およびデータ解析 ・半導体用レジスト材料の基礎理解 ・開発テーマに関する文献調査、技術整理 ・社内外関係部署との技術的な情報共有・ディスカッション ■習熟後に担当いただく業務 化学系バックグラウンドを活かし、レジスト組成設計、原材料設計、有機合成のいずれかを主軸として開発業務に従事していただきます。 ・レジスト組成・原材料の設計および性能改善検討 ・感度、LWR、欠陥等のリソグラフィ特性改善に向けた開発 ・海外パートナー企業（IM社等）との技術協議、共同評価の推進 ・顧客向け技術説明、評価サポート ・特許出願に向けた技術整理および権利化対応 ・中量産を見据えた材料設計、プロセス検討、サプライヤ連携

※以下の全てを満たす方 ・研究開発業務において、自ら課題を設定し、検討／実行／考察を行った経験 ・実験データの整理／解析および技術資料の作成経験 ・化学系のバックグラウンド（専攻が異なる場合でも、化学系企業での開発経験、基礎的な専門知識を有していれば可） ・英語による技術資料の読解、メールでのコミュニケーションに抵抗がないこと

・半導体材料、フォトレジスト、機能性材料等の研究開発経験 ・有機合成、材料合成、または原材料設計に関する実務経験 ・材料評価、物性評価、分析（HPLC、NMR 等）に関する経験 ・スケールアップ検討、品質設計、製造プロセス検討に携わった経験 ・顧客または社内関係部署向けの技術説明、技術サポート経験 ・特許出願に向けた技術整理、または知的財産業務への関与経験 ・海外拠点、海外企業との共同研究、技術ディスカッション経験（英会話による議論、打ち合わせが可能）

社内外の関係者と円滑に業務を進めるためのコミュニケーション能力を有している方

※諸手当・残業代除く