仕事内容

量産前工程ユニットプロセスは以下の7つのグループに分かれており、各ユニットプロセスのスペシャリストとして、プロセス改善、歩留改善、生産性改善、設備稼働改善、設備選定、コスト削減、材料管理業務を行って頂きます。【（1）リソグラフィープロセス: パターン形成　（2）CMPプロセス: ウェハ研磨　（3）CVDプロセス: 膜付け　（4）酸化/拡散プロセス: ウェハの酸化や拡散　（5）Wetプロセス: 薬液によるウェハ洗浄　（6）Metalプロセス: 金属膜をつける。（7）Dryプロセス: ガスを使った微細加工】【具体的には】開発部門から引き継いだプロセス技術を量産技術としてブラッシュアップするため、以下の業務を行います。・プロセス改善:既存のプロセスを見直し、より効率的な方法を模索します。・歩留まり改善:製品の生産効率を向上させるための取り組みを行います。・生産性改善:生産工程全体の効率を高める施策を実施します。・設備稼働改善：設備の稼働率を向上させ、安定した生産を目指します。・コスト削減:材料費や修理費用を削減するための取り組みを行います。【具体的な手法】以下のプロセスを経て課題解決を図ります。これらの業務は、将来性やコストを考慮しながら最適な解決策を見つけることを目指しています。 1:課題発生のモデルを立案　2:検証を繰り返し、原因を特定　3:効果的な対策を実施さらに、デバイスの世代交代に伴い、以下の業務も行います。・投資・設備選定：無駄のない投資を行い、最適な設備を選定します。・材料管理・BCP検討:材料の管理や事業継続計画（BCP）を検討します。・新規CRに向けた材料供給:新しい製品要件に対応するための材料供給を計画します。・要素技術開発:新技術の開発に取り組みます。・材料開発・導入評価:新材料の開発や、その導入に関する評価を行います。

必要な経験・資格

必須要件

以下、いずれかのご経験をお持ちの方 ※物理、化学、材料を専攻され、好奇心や探求心があり分からないことを解明すること、課題解決に喜びを感じる方は職種未経験でも応募可・半導体製造ラインにおける設備の立上げ/立下げの経験をお持ちの方・製造業における生産管理、製造能力管理の経験をお持ちの方

歓迎要件

・半導体装置メーカ、付帯設備メーカなどでフィールド業務経験をお持ちの方・動力負荷の設計経験をお持ちの方・プラズマに関する知見をお持ちの方・成膜/拡散関連や成膜の知見をお持ちの方・薬液に関する知見をお持ちの方

給与

年収550万円～1,260万円

※年収例・950万円／36歳（既婚・子2人／月給53万円＋各種手当＋賞与）・680万円／28歳（独身／月給39万円＋各種手当＋賞与）

給与形態

月給制

昇給

1回

賞与

2回

諸手当

次世代育成手当（18歳未満の扶養対象児童一人あたり15,000円／月）、住宅費補助、通勤手当(規定による)、時間外勤務手当、在宅勤務手当、残業代全額支給等

雇用条件

雇用形態

正社員

勤務時間

フレックスタイム制

就業時間

8:30〜17:15

勤務地

〒5120906 三重県四日市市山之一色町800番地

備考

四日市工場への配属を予定しています。在宅勤務：1～2日/週程度※業務事情による平均残業時間：25時間/月

転勤

場合によりあり

マイカー通勤

可

休日・休暇

年間125日／（内訳）完全週休2日制（土日）、祝日、GW、夏季、年末年始、有給、育児休暇、介護休暇、赴任休暇　等

年間休日125日以上

待遇・福利厚生

健康保険、雇用保険、労災保険独身寮、単身寮、家族社宅、在宅勤務制度、財形貯蓄制度、企業年金制度

教育・研修

社内技術に関するe-learning、社内外研修（勉強会）プログラム受講、部門やチーム内の有識者による勉強会開催、コンプライアンス関連eラーニング、自己啓発用eラーニング　等

退職金制度

担当コンサルタントからのコメント

デジタル社会を足元から支える最先端の半導体メモリ分野において、世界トップクラスのシェアを誇る企業です。グローバル市場を舞台に「世界初」を生み出す技術開発に挑戦しており、大きなスケールでモノづくりのやりがいと成長を実感できます。最先端の技術を追求し、世界を舞台に活躍したい方に最適な環境です。

会社概要

会社名

キオクシア株式会社

所在地

〒1080023 東京都港区芝浦3-1-21 田町ステーションタワーS

設立

2017年4月

代表者

代表取締役社長　早坂伸夫

資本金

100億円

上場・非上場

東証プライム

従業員数

10,202人（2025年3月現在）

平均年齢

41歳

事業内容・沿革

■メモリおよび関連製品の開発・製造・販売事業、その関連事業＜沿革＞ 1987年　世界初のNAND型フラッシュメモリを発明 1992年　四日市工場を設立 2007年　世界初の3次元フラッシュメモリ技術を発表 2017年　東芝メモリ（株）として発足。（株）東芝のメモリ事業を会社分割により承継し事業を開始 2017年　東芝メモリ岩手（株）を設立　※現：キオクシア岩手（株） 2019年　キオクシア（株）に社名変更 2020年　台湾・LITE-ONテクノロジー社の子会社Solid State Storage Technology Corporationを買収 2021年　キオクシアアドバンスドパッケージ（株）を吸収合併 2022年　中部東芝エンジニアリング（株）の株式を取得し子会社化　※現：キオクシアエンジニアリング（株）

企業の特徴

【概要・特徴】 NAND型フラッシュメモリで世界シェア第2位の半導体メーカーです。2017年に（株）東芝のメモリ事業を承継し、「東芝メモリ（株）」として発足。2019年に社名を「キオクシア（株）」に変更しました。三重県四日市市に世界最大級のフラッシュメモリ工場を有しており、フラッシュメモリでは世界シェア約20％を獲得しています。米国・欧州・アジアに関係会社を有しグローバルに事業を展開。海外売上高比率（連結）は約90％です。【研究・技術開発】 1987年に世界初のNAND型フラッシュメモリを発明。2007年に世界初の3次元フラッシュメモリ技術を発表し、多値NANDを搭載した128GBのSSDを製品化するなど、革新的な技術・製品を次々と開発し、フラッシュメモリとSSDのリーディングカンパニーとしての地位を確立しています。また、研究開発拠点として、四日市・横浜エリアに先端研究開発・応用システム開発・開発試作業務を行う「メモリ技術研究所」を保有。さらに四日市エリアには同社が世界に先駆けて開発した3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH」の研究開発と量産化の橋渡しを担う「先端メモリ開発センター」も有しています。【生産拠点】四日市工場の敷地面積は約69万平方メートルで、工場で働く人数は約7000人。数千台の製造装置や検査計測装置から、1日あたり50TBにものぼる膨大な製造関連データが生成されています。また2022年には第7製造棟を新設し、生産力の増強を図っています。

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