【ウエハプロセス開発＜SiCパワーデバイス＞】世界TOPクラスの総合電機メーカーの半導体部門（熊本県）の求人情報

■SiCパワーデバイスのイオン注入または拡散工程のプロセス開発やプロセスインテグレーション開発部門と連携しながら、次世代SiCデバイスのコア技術の構築を担当していただきます。 【具体的には】 （1） 既設装置を用いた評価・データ分析 a) 既存のイオン注入装置・拡散炉を用いた試作評価 b) 電気特性、プロセスデータ、不良解析結果などの整理・分析 c) 評価結果に基づく課題抽出、プロセス条件の改善検討 （2）新規装置・新規プロセスの立ち上げ a) 新規イオン注入装置・拡散炉の装置仕様確認、搬入、立ち上げ対応 b) 装置メーカーや社内関連部門と連携した条件出し、評価、量産適用検証 c) 安定稼働に向けた作業手順、管理項目、工程条件の整備 （3） 次世代SiCデバイス向けウエハプロセス開発 a) 次世代SiCデバイスに求められるイオン注入工程・拡散工程のプロセス条件構築 b) デバイス特性向上、歩留まり改善、量産性向上に向けたプロセス最適化 c) プロセスインテグレーション開発部門や製造部門と連携した課題解決、開発テーマの推進 入社後は、既存プロセスの評価・分析や新規装置立ち上げを通じて工程理解を深めていただき、将来的には担当工程のプロセス開発を主体的に推進し、次世代SiCパワーデバイスの実用化・量産化に貢献いただくことを期待しています。

・半導体もしくは電子部品の製造プロセスにおいて、 「製造条件の調整・改善」「プロセスの要素技術開発」「装置の立ち上げ、ラインの立ち上げ」いずれかのご経験をお持ちの方

※以下の業務知識、経験をお持ちの方 ・ウエハプロセス要素技術業務の経験 ・イオン注入プロセス業務経験 ・拡散プロセス業務経験 ・パワーデバイス業界での経験 ・ウエハプロセス開発経験 ・装置メーカにて、イオン注入装置、拡散炉の業務経験(装置構造、動作原理を把握されている方)

・論理的に考え、建設的な議論ができる方 ・周囲を巻き込みながら、主体的に業務を推進できる方 ・目標達成に向けて、常に実現方法を考え、粘り強く業務に取り組める方 ・従来のやり方にとらわれず、柔軟な発想で業務に取り組める方

経験・役割等による