【コーポレート人事】テクセンドフォトマスク株式会社（東京都港区）の求人情報

仕事内容

■本社HR機能の一員として、グローバル横断の人事イニシアチブを主導・推進いただきます。各グローバルリージョンのHRカウンターパートと緊密に連携し、組織全体のアラインメント、標準化、運用効率の向上を実現します。併せて、同社のグローバル報酬・福利厚生（Compensation& Benefits）の主要領域を管掌し、またHRコアシステムの継続的な改善をリードします。さらに、グローバルの報酬プランニングの統括や、必要に応じたベンダー交渉も担います。【具体的には】・本社主導のHRイニシアチブをリードし、各リージョン間の整合の確保・各国のHRメンバーと連携し、方針・運用の標準化を推進・グローバルの報酬プランニングを統括し、各地域横断の調整を支援・HR制度・方針の設計／改定／実装を担い、報酬フレームワークや関連HRプログラムを整備・HRコアシステムの改善を主導し、データ品質、ユーザーエクスペリエンス、業務効率を向上・本社主導の取組みに関するガイダンスを各地域のHRに提供し、経営向けのレポート／分析を作成・HRのトレンドや市場データをモニタリングし、戦略立案と制度設計に反映

必要な経験・資格

必須要件

※いずれも必須・グローバルプログラム（例：C&B、HRシステム、横断HRイニシアチブ）関連業務を含むHR経験8年以上、うちマネジメント経験3年以上・Microsoft OfficeおよびHRデータ／アナリティクス系ツールの実務スキル・ビジネス会話ができるレベルの英語力

求める人物像

・高い分析力、問題解決力、コミュニケーション力、プレゼンテーション力をお持ちの方・多文化・多地域で協働できる能力、リーダーシップおよびプロジェクトマネジメント力をお持ちの方

給与

年収1,000万円～1,500万円

※ご経験に応じて、ポジションおよびご年収を検討

給与形態

月給制

昇給

1回

賞与

2回

諸手当

通勤交通費、業務用交通費、家族手当、時間外手当、出張手当

雇用条件

雇用形態

正社員

勤務時間

固定労働時間制

就業時間

9:00〜18:00

勤務地

〒1050021 東京都港区東新橋1-5-2 汐留シティセンター最寄り駅：新橋（ＪＲ山手線）徒歩3分

転勤

場合によりあり

マイカー通勤

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休日・休暇

年間126日／（内訳）完全週休2日制（土日）、祝日、夏季連続休暇（9日間→夏季休暇としての付与は3日、計画的付与山の日や土日を合わせると9日前後）、年末年始（6日間）、有給休暇（10～20日間）、慶事休暇、産前産後休暇、育児休暇、介護休暇、メモリアル休暇、半日休暇制度など

年間休日125日以上

待遇・福利厚生

健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金退職金（定年65歳）、財形貯蓄、財形融資、社員持株、保養所、診療所、育児休業制度、介護休業、介護勤務短縮制度

教育・研修

ビジネススクール（自己啓発のため選択研修）、チャレンジスクール（通信教育）、海外トレーニー制度、選抜型研修、部門別個別研修　他

担当コンサルタントからのコメント

TOPPANグループのプライム企業です。その中でも親会社の大企業のような社風が浸透している、勢いと落ち着きのある非常に魅力的な企業ですので、ぜひ一度ご応募ください。

会社概要

会社名

テクセンドフォトマスク株式会社

所在地

〒1057133 東京都港区東新橋1-5-2 汐留シティセンタービル33階

設立

2022年4月

代表者

代表取締役社長　二ノ宮照雄

資本金

104億円

上場・非上場

東証プライム

従業員数

1,959人（2025年3月現在）

平均年齢

42歳

事業内容・沿革

■フォトマスクの製造・販売＜沿革＞ 1900年　凸版印刷合資会社設立 1908年　凸版印刷株式会社に改組 1961年　シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功 1990年　トッパンプリントロニクス（U.S.A）インコーポレイテッドを設立 1997年　中華凸版電子を設立 2005年　デュポンフォトマスクの全株式を取得、Toppan Photomasks, Inc.を設立 2010年　22および20nm半導体向けフォトマスクの製造プロセスを構築 2022年　株式会社トッパンフォトマスク（同社）を設立 2024年　テクセンドフォトマスク株式会社へ社名変更 2025年　東証プライム市場へ上場

企業の特徴

【概要・特徴】 TOPPANグループに属する半導体用フォトマスクメーカー。2022年に凸版印刷のフォトマスク事業を承継する形で設立され、インテグラルグループとの共同出資体制のもと事業を展開しています。日本国内に加え、米国、欧州、アジアに製造・サービス拠点を構築。半導体用フォトマスクを中心に、研究・開発用ガラスマスク、シリコンステンシルマスク、ナノインプリント用モールドなどの開発・製造を行なっています。【実績】凸版印刷時代の1961年からフォトマスク事業を展開しており、長年培ってきた微細加工技術や生産技術を強みに事業を拡大してきました。現在は、日本・米国・欧州・アジアに製造拠点を展開し、グローバルな供給体制を構築。半導体市場の成長や先端プロセス化に対応した製品開発・供給を行なっています。【人材育成】入社後はOJTを通じて業務知識や実務スキルを習得できる体制を整備しています。また、階層別研修に加え、従業員が自身のキャリアデザインに合わせて自由に選択・受講できる教育制度を用意。集合形式やオンライン形式で実施される「ビジネススクール（選択研修）」、通信教育型の「チャレンジスクール」など、多様な学習機会を提供しています。さらに、語学研修や海外トレーニー制度など、グローバル人財の育成にも注力しており、社員一人ひとりの成長やキャリア形成を支援しています。

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