株式会社サムスン日本研究所

神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2-7

このページでは、転職に役立つ企業情報を掲載しています。

株式会社サムスン日本研究所の企業情報

事業内容・沿革

■電子部品及び半導体設計と素材の開発、通信機器、コンピュータ及び周辺機器の研究開発＜沿革＞ 1992年　株式会社アイテック設立、資本金4億9,500万円（東京都板橋区舟渡１丁目9番8号） 1996年　資本金46億円に増資。事務所移転（東京都中央区日本橋浜町2丁目31番1号）　浜町センタービル 1997年　事務所移転（横浜市鶴見区菅沢町2-7）自社ビル竣工 1998年　株式会社サムスン横浜研究所に商号変更 2002年　大阪分所　開設 2008年　札幌分所、福岡分所　開設 2009年　福岡分所　別会社として法人化 2013年　株式会社　サムスン日本研究所に商号変更

企業の特徴

【概要・特徴】サムスングループの日本における研究開発機関。サムスンの中核研究所として、「エナジー・材料」、「家電」、「画像処理」、「光学・メカ」、「半導体」の5つの研究開発分野に取り組んでいます。サムスンの研究所の中で最大規模を誇り、敷地面積約7,200平方メートル、総床面積約19,000平方メートル、地上6階地下2階建ての先進インテリジェント機能を備えています。【研究開発】・半導体：最先端の微細化技術を用いたデバイスの回路設計をはじめとする研究開発や各種メモリの研究開発に取り組んでいます。回路の線幅を20nmから10nmにすることに成功しており、原価低減と生産性の向上を実現しています。・エナジー・材料：モバイル機器に必須の高容量・高安全リチウムイオン二次電池およびセラミック材料、次世代ディスプレイ材料の研究開発を行っています。有機ELの分野では、形状可変が可能なディスプレイの素材研究および技術開発を行なっています。【職場環境】横浜研究所・大阪研究所の2拠点体制で、試作工作機（3Dプリンタ）・実験室（セラミックス）粒度計・環境試験室などの充実した施設と潤沢な資金を有し、長期的に研究開発を行える環境があります。また、同社の正規雇用労働者の中途採用比率は非常に高く、中途入社の方にも馴染み易い環境です。離職率は10％以下と、長期就業できる環境が整っています。

所在地

〒2300027 神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2-7

設立

1992年8月

代表者

代表取締役　多田充

資本金

72億4,500万円

上場・非上場

非上場

従業員数

620人

この企業について聞いてみる

アンドプロの 3つの強み

業界/職種専任のプロによる納得の支援

企業の"本音"をもとにあなたの強みを見出す

未来を見据えた本質的なキャリアサポート