ギガフォトン株式会社
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ギガフォトン株式会社の企業情報
ギガフォトン株式会社の企業情報
事業内容・沿革
■半導体リソグラフィ用、その他用エキシマレーザおよび極端紫外線光源(EUV)の開発・製造・販売
<沿革>
1980年 コマツ、CARSを応用したエンジン燃焼診断システム発売
1989年 Cymer社が露光用エキシマレーザ市場参入
1996年 コマツ、エキシマレーザ事業部発足
2000年 ギガフォトン株式会社設立
2009年 第1回レーザー学会産業賞の装置・システム部門でリソグラフィー用レーザーが優秀賞受賞
2011年 コマツの100%子会社となる露光用エキシマレーザ累計1,000台出荷達成
2015年 エキシマレーザ本体の販売マーケットシェア64%を超える(過去最高)第21回半導体オブザイヤーでGT64Aが優秀賞受賞
2022年 米Intel社「Intel 2022 EPIC Valued Supplier Award for Technology」受賞、本社新社屋完成、露光用エキシマレーザ、2,000台出荷達成
2023年 米Intel社「Intel 2023 EPIC Valued Supplier Award for Cost」受賞、新食堂棟が稼働開始、本社新生産棟が完成
企業の特徴
【概要・特徴】
大手建機メーカー「(株)小松製作所」100%子会社の露光用エキシマレーザメーカー。長年コマツが培ってきたレーザ製品の技術開発経験を継承し、最先端企業として2000年に設立されました。以来、半導体リソグラフィ装置向けにエキシマレーザを次々と製品化。北米、欧州、アジアに拠点を有し、日本を含む世界中の半導体メーカーで同社製品が使用されているほか、欧米市場でも成長を続けています。さらに、次世代リソグラフィ光源として注目されている極端紫外線(EUV)光源の開発や、新分野へのエキシマレーザ応用事業にも注力しています。
【エキシマレーザとは】
ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いた紫外線(UV)レーザで、高効率に高いエネルギーを発生させることができ、半導体製造の最重要工程であるリソグラフィ工程で使用されます。エキシマレーザメーカーは世界で2社しかなく、そのうちの1社が同社です。レーザの種類には「KrF」「ArFドライ」「ArFイマージョン(液浸)」などがあります。
【技術力】
独自の「レーザ技術」と「光計測技術」を活かし、高性能なリソグラフィ用光源を広く半導体業界に提供。2001年には4kHzの高周波数発振を可能とする“量産型ArFエキシマレーザ”を世界に先がけて製品化しています。また、同社のKrFエキシマレーザは豊富な製品ラインナップ・高性能・高品質・経済性が高い評価を得ており、世界の露光装置メーカーの技術競争力を支えています。
【働き方】
年間休日日数128日、全社平均残業時間15.38時間/月、既婚者に限り新幹線通勤可能など、福利厚生も手厚くワークライフバランスを整えながら勤務することができます。
所在地
〒3238558
栃木県小山市横倉新田400
設立
2000年8月
代表者
代表取締役社長 榎波 龍雄
資本金
50億円
上場・非上場
非上場
従業員数
1,398人(2025年3月現在)
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