東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社
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東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社の企業情報
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社の企業情報
事業内容・沿革
■半導体製造装置(枚葉成膜装置・洗浄装置・テストシステム)、FPD製造装置の開発・製造
<沿革>
1970年 株式会社メックエンジニアリング設立
1975年 株式会社テル・エンジニアリングと合併、株式会社テルメック(東京エレクトロン山梨株式会社の前身)に社名変更
1983年 東京エレクトロン株式会社と米国ラム・リサーチ社の合弁により、テル・ラム株式会社を設立(山梨県)
1987年 テル・ラム株式会社をテル山梨株式会社に社名変更
1997年 東京エレクトロン宮城株式会社を設立(宮城県)
2004年 東京エレクトロンAT株式会社と東京エレクトロン東北株式会社が合併
2006年 東京エレクトロンAT株式会社、東京エレクトロン東北株式会社、東京エレクトロンTS株式会社に分社
2011年 東京エレクトロンAT株式会社の半導体製造用エッチング装置事業を東京エレクトロン宮城株式会社へ移管
2017年 東京エレクトロン山梨株式会社と東京エレクトロン東北株式会社を合併し、東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社となる
企業の特徴
【概要・特徴】
東証プライム上場の半導体製造装置メーカー「東京エレクトロングループ」の1社であり、成膜技術に強みを持つ半導体製造装置メーカーです。東京エレクトロングループの中核を担う企業として、半導体製造装置・FPD製造装置の開発・製造を実施。同社製装置は、PC・携帯電話・スマートフォンなどのデジタル機器産業などで採用されています。
【技術開発】
次世代半導体製造装置の開発に不可欠な微細加工技術にいち早く取り組み、次世代に向けた装置を開発。同社の主力製品である、熱やプラズマを利用して金属薄膜成膜や表面改質をする「枚葉成膜装置(CVD装置・プラズマ処理装置)」は世界市場でトップシェアを獲得しています。そのほか、ガスケミカルエッチング装置、次世代半導体向けスパッタリング装置、ウェーハプローバ、FPDプラズマエッチング/アッシング装置など幅広い装置を開発・製造しており、革新的な技術力を活かした独創的な提案で顧客ニーズに応えています。
【注力分野】
東北事業所における新棟建設: 岩手県奥州市に、約220億円を投じて「東北生産・物流センター(仮称)」を建設しています。2025年秋の竣工を予定しており、熱処理成膜装置や枚葉成膜装置などの製造を行うことで、生産スペースを従来比で約1.5倍に拡大します。
山梨事業所における新開発棟竣工: 山梨県韮崎市では、約110億円を投じた新開発棟が2023年春に竣工しました。これにより、成膜装置やガスケミカルエッチング装置などの開発力をさらに強化し、市場の需要にタイムリーに応える体制を整えています。
これらの新棟建設は、半導体市場の成長と顧客のニーズに応えるための積極的な投資であり、同社の持続的な成長と技術革新への強い意志を示すものです。
所在地
〒4078511
山梨県韮崎市藤井町北下条2381-1
設立
1983年7月
代表者
代表取締役社長 佐々木 貞夫
資本金
40億円
上場・非上場
非上場
従業員数
2,778人(2023年4月現在)
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