装置技術開発<半導体業界向けマルチ電子ビームマスク描画装置>
マルチ電子ビームマスク描画装置用プラットフォームの開発および技術フォロー業務をご担当いただきます。半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、装置に求められる精度や処理性能は日々高度化しており、それらに対応するための新規開発・性能改善・技術フォローが必要となります。最先端半導体の製造および、安定供給を支えることをミッションとして、新製品開発から顧客サポートまで幅広く携わっていただきます。 【当ポジションの位置づけ】 マルチ電子ビームマスク描画装置は、オーストリアのIMS社と当社の協業で開発しています。電子ビームを生成・制御する装置の中核部はIMS社が担い、当社は描画時にフォトマスクを高精度に動かすステージ、真空チャンバー、試料搬送系などの「プラットフォーム」を開発・供給しています。 本ポジションはプラットフォームの仕様検討・技術開発・性能評価を行う上流部門です。機械・電気・ソフトウェアの詳細設計は社内の設計部門へ仕様を提示して依頼し、出来上がったものを評価・改善する役割を担います。図面を描く実設計ではなく、「装置としてどうあるべきか」を考え、設計部門・製造部門・IMS社をつなぐポジションです。 【職務詳細】 ・新製品の仕様検討、性能評価 ・既存機アップグレードの仕様検討、性能評価 ・社内設計部門への設計依頼と、試作機・実機の性能評価 ・顧客課題の解決サポート(現地出張対応含む) ・文書作成(マニュアル、仕様書、技術文書など) 【働き方】 ・平均残業時間:月20時間/部署平均 ・在宅勤務:月1回程度在宅/部署平均