レーザーテック株式会社
神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1このページでは、転職に役立つ企業情報を掲載しています。
レーザーテック株式会社の企業情報
レーザーテック株式会社の企業情報
事業内容・沿革
■半導体およびFPD製造工程における検査・計測装置、レーザー顕微鏡などの設計・販売・サービス
＜沿革＞
1960年 医療用X線テレビカメラ装置の設計・開発を行う「（有）東京ITV研究所」として創業
1962年 「日本自動制御（株）」設立
1976年 世界初のLSIのマスクパタン欠陥を自動検査する「フォトマスク欠陥検査装置」を開発
1986年 社名を「レーザーテック（株）」に変更。米国に子会社を設立
2001年 韓国に子会社を設立
2012年 東証二部に上場
2013年 東証一部に上場
2017年 世界初のEUV光（波長13.5nm）を用いた「EUVマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置」を開発。中国上海市に子会社を設立
2019年 世界初のEUV光（波長13.5nm）を用いた「アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置」を開発。シンガポールに子会社を設立
2022年 東証プライムに上場区分を変更。新横浜で新研究開発拠点Lasertec Innovation Parkの物件を取得し、建設開始
企業の特徴
【概要・特徴】
東証プライム上場、半導体FPD検査・計測装置のニッチトップ企業。マスクブランクス・フォトマスクおよびウェハの検査・計測装置、FPDフォトマスク・基板の欠陥検査装置、3次元形状測定顕微鏡、リチウムイオン電池の検査・測定装置の開発・販売を行なっています。同社は製造工程の多くを外部に委託する開発主体の企業で、売上高営業利益率は約40％と非常に高い水準となっています（一般的な製造業は約5％）。
【技術力】
全焦点で高精細な3次元画像が得られる「共焦点光学系技術」、半導体リソグラフィの微細化に伴う光源の短波長化に適応した「DUV／EUV光学系技術」、光の位相のわずかなずれを正確に測定する「光干渉計技術」を独自に開発。これら3つをコアの光応用技術とし、周辺技術（画像処理・エレクトロニクス・精密機構）と組み合わせ、革新的な製品を次々と開発しています。なかでも、EUVマスクブランクス欠陥検査装置が業界標準として採用されているほか、マスク欠陥検査装置でも高いシェアを獲得しています。
【グローバル展開】
米国・韓国・中国・台湾・シンガポールに拠点を有し、グローバルに事業を展開。海外売上高比率は80％以上で、世界各地の大手メーカーに製品を提供しています。同社では稼動装置のアップタイムを最大化するため、現地でのフルサポート体制と緊急時の迅速なバックアップ体制を構築。ワールドワイドなサポート体制で、顧客の生産ラインと研究開発体制を支えています。
所在地
〒2228552
神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1
設立
1962年8月
代表者
代表取締役 社長執行役員 仙洞田哲也
資本金
9億3,100万円
上場・非上場
東証プライム
従業員数
1,017人（2024年6月現在）
平均年齢
41歳
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