株式会社堀場エステック
京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11-5このページでは、転職に役立つ企業情報を掲載しています。
株式会社堀場エステックの企業情報
株式会社堀場エステックの企業情報
事業内容・沿革
■流体計測・制御機器、真空計測・分析機器、液体材料気化装置、標準ガス発生装置、ガス発生・精製装置、精密混合装置及びその応用製品の開発・製造・販売
＜沿革＞
1974年 （株）堀場製作所ほか4社の共同出資により、（株）スタンダードテクノロジを設立
1980年 マスフローコントローラを発売し、半導体分野に進出
2004年 （株）堀場エステックに社名を変更
2005年 （株）堀場製作所の完全子会社となる
2007年 「HORIBA Technology Center」を米国シリコンバレーに開設
2014年 「京都福知山テクノロジーセンター」を開設
2015年 半導体技術の研究開発専用拠点「HORIBA最先端技術センター」を新設
2017年 HORIBAグループの基幹工場「阿蘇工場」第5期拡張工事が完了（生産能力が従来に比べ倍増）
2018年 ホリバ・インスツルメンツ社（米国）が「HORIBA Reno Technology Center」を開設
企業の特徴
【概要・特徴】
東証プライム上場の分析・計測機器メーカー「（株）堀場製作所」グループの半導体セグメントを担う企業。半導体デバイスの製造に必要不可欠な流体制御機器「マスフローコントローラ（MFC）」を中心に、精密流体制御機器や真空計測機器、その複合応用製品の開発・製造・販売を行なっています。主力製品のMFCは世界シェア60％を獲得しています（同社調べ／2021年12月時点）。
【マスフローコントローラとは】
流体の質量流量を計測し、流量制御を行う機器。半導体や液晶をつくるプロセスではさまざまなガスや液体が使われます。同社のMFCはそれらの“流量”を極めて精密に制御し、ほんのわずかな誤差も許されない同プロセスにおいて“心臓部”の役割を果たしています。CPUを搭載したデジタルMFCやデバイスネット通信に対応したモデルなど、顧客ニーズに合わせたさまざまなモデルをラインアップしています。
【研究開発】
米国の「HORIBA Technology Center（Sunnyvale／Renoの2拠点）」と「京都福知山テクノロジーセンター」、次世代ハイテク材料の制御機器開発などを行う本社隣接の「HORIBA最先端技術センター」を拠点に研究開発を実施。さらに、韓国「HORIBA STEC Korea」にはアプリケーションに対応したR&Dセンターを開設しています。Global R&D networkを基盤とし、高い技術へのチャレンジにより「真の流体計測・制御 No.1」を目指しています。
所在地
〒6018116
京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11-5
設立
1974年1月
代表者
代表取締役社長 堀場 弾
資本金
14億7,800万円
上場・非上場
非上場
従業員数
640人（2022年12月現在）
平均年齢
39歳
アンドプロの 3つ の強み
1
業界/職種専任のプロによる納得の支援
2
企業の"本音"をもとにあなたの強みを見出す
3
未来を見据えた本質的なキャリアサポート
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